HIỆU QUẢ CỦA LIỆU PHÁP PLASMA LẠNH TRONG THÚC ĐẨY HỒI PHỤC VẾT KHÂU TẦNG SINH MÔN SAU ĐẺ THƯỜNG TẠI

Tóm tắt

Mục tiêu: Đánh giá hiệu quả của chiếu tia plasma lạnh trong phục hồi vết khâu tầng sinh môn sau đẻ thường. Đối tượng và phương pháp: Nghiên cứu thuần tập tiến cứu trên 140 sản phụ đẻ thường con so có khâu tầng sinh môn độ 2, gồm nhóm chiếu plasma lạnh và nhóm chăm sóc thường quy, mỗi nhóm 70 sản phụ. Mức độ đau được đánh giá bằng thang điểm VAS, tình trạng hồi phục vết khâu được đánh giá bằng thang điểm REEDA tại ngày 1, 2, 3 và 14 sau đẻ. Kết quả: Hai nhóm tương đồng về tuổi, BMI, bệnh lý nội khoa và cân nặng thai, nhưng khác biệt về nghề nghiệp. Điểm VAS và REEDA không khác biệt có ý nghĩa thống kê tại ngày 1 và 2. Từ ngày 3 đến ngày 14, nhóm chiếu plasma lạnh có điểm VAS và REEDA thấp hơn có ý nghĩa thống kê so với nhóm chăm sóc thường quy. Sau hiệu chỉnh theo BMI, bệnh lý nội khoa, cân nặng thai và nghề nghiệp, chiếu plasma lạnh vẫn có liên quan với điểm VAS và REEDA thấp hơn tại ngày 3 và ngày 14. Không ghi nhận nhiễm trùng tầng sinh môn ở cả hai nhóm. Kết luận: Chiếu plasma lạnh có liên quan đến cải thiện nhanh hơn mức độ đau và hồi phục vết khâu tầng sinh môn trong giai đoạn hậu sản sớm. Cần thêm nghiên cứu có thiết kế chặt chẽ và thời gian theo dõi dài hơn để khẳng định hiệu quả và đánh giá đầy đủ tính an toàn.